物理科學與技術學院研究生名家講壇

發布時間:2019-10-08瀏覽次數:10

物理科學與技術學院研究生名家講壇

報告題目:After 193i;下一代納米光刻技術的開發和應用

內容簡介:在芯片技術的發展過程中,器件的特征尺寸越來越小,為了達到納米精度要求,光刻技術成為關鍵。投射光刻技術是目前光刻工藝的主流。隨著加工器件的日益精細和尺度不斷縮小,這種傳統光刻技術也變得越發復雜,而這也導致了器件的光刻成本不斷增加。最新的ASML EUV光刻機售價已經達到一億美元。因此,許多研究機構都在努力尋找可替代的低成本光刻技術。本報告將著重介紹期中的等離子直寫技術和納米壓印技術。

報告地點:物理科學與技術學院7A401

報告時間:20191014日上午10:30-11:30(星期一)

報告人:王亮  (中國科學技術大學教授/博士生導師)

報告人簡介:王亮博士于全美最佳工程學院之一的美國普渡大學機械工程系獲得博士學位。畢業后前往德克薩斯州澳士汀參與創立了分子制膜公司(Molecular Imprints),是該公司最早期的20名員工之一,該公司后成功被日本佳能公司收購.2011年初赴美國硅谷加入半導體微納設備制造商科林研發公司(Lam Research Corp, 納斯達克上市代碼:LRCX)擔任主任工程師,負責與全球最大的半導體芯片供應商臺積電(TSMC)共同開發20nm的芯片工藝。2013年初進入IBM 于紐約上州的芯片基地, 任職技術經理負責14nm芯片的開發。2013年入選中央組織部“千人計劃”,2014年全職回國任中國科學技術大學教授/博士生導師.

王亮博士研究方向為納米光學和半導體光電器件。兼任安徽省光電子重點實驗室副主任,中國光電子協會和中國儀器儀表協會委員。近年有30多篇學術論文發表在國際刊物上,被引用超過600次。申請和獲得國際專利20余項,主持國家自然基金重大項目子課題和面上項目,主持科技部重點研發計劃課題,參與國家自然科學基金重點項目。同時應美國科學出版社邀請撰寫 “Nanomanufacturing” 一章。應邀為多個國際權威雜志的特約審稿人包括Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等。

 (撰稿人:鄒開順  審稿人:廖幫全)

 

                    物理科學與技術學院  

               2019109

 


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